箱式氣氛爐的工作原理

箱式氣氛爐適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等材料的擴(kuò)散焊，氣氛爐加熱設(shè)備用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室，用于氣氛狀態(tài)下各種新材料的樣品。
箱式氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，采用了一種機(jī)殼結(jié)構(gòu)和程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)，可控硅控制，爐膛采用了一種氧化鋁多晶纖維材料，爐膛采用了一種能快速升降風(fēng)冷系統(tǒng)，采用了外殼整體密封，蓋蓋采用了硅膠泥密封，爐膛門采用了一種硅膠墊并通有水冷系統(tǒng)，氣體通過爐膛后由一只管管管排出，多個清洗爐膛進(jìn)氣口、出氣口均有燃燒口，可通氫氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體。
箱式氣氛爐適用于真空或保護(hù)性氣氛下金屬材料的擴(kuò)散焊。也可用于材料試驗(yàn)，合成，配制等；陶瓷材料，粉末材料，金屬陶瓷真空配制。